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行星球磨儀的安全操作規(guī)范：過(guò)載保護(hù)、緊急停機(jī)與日常維護(hù)
2026-02-09 行星球磨儀是樣品粉碎和機(jī)械合金化的重要設(shè)備，其高速旋轉(zhuǎn)的研磨罐和磨球具有潛在危險(xiǎn)，安全操作規(guī)范至關(guān)重要。行星球磨儀通過(guò)公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)的復(fù)合運(yùn)動(dòng)，使磨球?qū)悠樊a(chǎn)生高能沖擊和研磨作用。安全操作規(guī)范是使用行星球磨儀的基礎(chǔ)。操作前需檢查設(shè)備是否完好，防護(hù)罩是否關(guān)閉牢固，緊固螺栓是否松動(dòng)。裝樣時(shí)需確保研磨罐對(duì)稱放置，重量平衡，避免運(yùn)行時(shí)產(chǎn)生劇烈振動(dòng)。設(shè)置轉(zhuǎn)速時(shí)需從低速開(kāi)始逐步升高，觀察運(yùn)行是否平穩(wěn)。運(yùn)行過(guò)程中嚴(yán)禁打開(kāi)防護(hù)罩或觸摸旋轉(zhuǎn)部件。操作人員需佩戴防護(hù)眼鏡，防止樣品飛濺。對(duì)于易燃易爆樣...顯微成像橢偏儀：結(jié)合了橢偏技術(shù)與光學(xué)顯微成像技術(shù)的高精度儀器
2026-01-26 顯微成像橢偏儀是一種將橢偏技術(shù)與光學(xué)顯微成像結(jié)合的精密儀器，主要用于在微米尺度上無(wú)損測(cè)量薄膜的厚度、折射率等光學(xué)參數(shù)，并能實(shí)時(shí)可視化樣品表面的形貌分布。它適合分析微結(jié)構(gòu)樣品，比如集成電路、傳感器或二維材料，具有亞納米級(jí)的厚度分辨率和微米級(jí)的橫向分辨率。顯微成像橢偏儀基于橢圓偏振原理，通過(guò)分析入射偏振光經(jīng)樣品反射或透射后的偏振態(tài)變化，結(jié)合光學(xué)顯微成像技術(shù)，獲取樣品表面的三維形貌分布及薄膜厚度、折射率等光學(xué)參數(shù)。具體過(guò)程如下：光源與偏振控制：光源發(fā)出的光經(jīng)起偏器變?yōu)榫€偏振光，再通...ALD原子層沉積設(shè)備如何實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)薄膜的精準(zhǔn)控制？
2026-01-22 在先進(jìn)半導(dǎo)體制造、新能源材料及納米器件研發(fā)中，對(duì)薄膜厚度與成分的控制精度要求已進(jìn)入亞納米級(jí)別。ALD原子層沉積設(shè)備技術(shù)憑借其獨(dú)特的自限制反應(yīng)機(jī)制，成為實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的核心手段。而ALD設(shè)備正是實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)精準(zhǔn)控制的關(guān)鍵載體。ALD的基本原理是通過(guò)交替通入兩種或多種前驅(qū)體氣體，在基底表面發(fā)生自限性化學(xué)吸附與反應(yīng)，每次循環(huán)僅沉積單原子層。這種“逐層生長(zhǎng)”方式從根本上避免了傳統(tǒng)化學(xué)氣相沉積(CVD)中因反應(yīng)不可控導(dǎo)致的厚度不均問(wèn)題。要實(shí)現(xiàn)亞納米級(jí)控制，ALD設(shè)備必須具備高精度的氣體輸...實(shí)驗(yàn)室小型水冷機(jī)如何保障激光器、ICP、XRD等設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行？
2026-01-16 在現(xiàn)代科研與分析測(cè)試實(shí)驗(yàn)室中，激光器、電感耦合等離子體光譜儀(ICP)、X射線衍射儀(XRD)等高精密儀器對(duì)工作環(huán)境的溫度穩(wěn)定性要求高。這些設(shè)備在運(yùn)行過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量熱量，若不能及時(shí)有效散熱，將導(dǎo)致性能漂移、壽命縮短甚至突發(fā)故障。此時(shí)，實(shí)驗(yàn)室小型水冷機(jī)便成為保障其長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵輔助設(shè)備。首先，以激光器為例，其核心元件如激光二極管或晶體對(duì)溫度極其敏感。溫度波動(dòng)不僅會(huì)引起波長(zhǎng)漂移，還可能降低輸出功率，嚴(yán)重時(shí)造成模式跳變或長(zhǎng)久損傷。小型水冷機(jī)通過(guò)閉環(huán)循環(huán)系統(tǒng)，將恒溫冷卻液(通常...離子濺射儀的靶材選擇與涂層質(zhì)量關(guān)聯(lián)
2025-12-13 離子濺射儀通過(guò)高能離子轟擊靶材表面，實(shí)現(xiàn)原子級(jí)薄膜沉積。靶材的選擇直接決定涂層的物理化學(xué)性能，需綜合考慮材料特性、工藝參數(shù)及應(yīng)用需求。靶材類型與性能匹配金屬靶材(如Au、Al、Cr)：適用于導(dǎo)電性要求高的場(chǎng)景，如電子封裝和光學(xué)反射膜。合金靶材(如NiCr、TiAl)：通過(guò)成分調(diào)控可優(yōu)化涂層硬度(如TiAlN涂層硬度25GPa)或抗氧化性。陶瓷靶材(如SiO?、ZrO?)：用于絕緣層或耐磨涂層，但需注意其脆性可能導(dǎo)致濺射效率下降。靶材參數(shù)對(duì)涂層質(zhì)量的影響純度要求：高純度靶材(≥...關(guān)注公眾號(hào)
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