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關(guān)于熱原子層沉積的相關(guān)介紹一起了解下
2025-11-26 TALD通過交替引入兩種或多種前驅(qū)體氣體，在基底表面發(fā)生自限性化學(xué)反應(yīng)，逐層沉積薄膜。每個完整的沉積循環(huán)包含四個步驟：通入第一種前驅(qū)體氣體：使其與基底表面發(fā)生化學(xué)吸附，形成單層吸附。惰性氣體吹掃：去除多余的前驅(qū)體和副產(chǎn)物，避免氣相反應(yīng)。通入第二種前驅(qū)體氣體：與已吸附的第一種前驅(qū)體反應(yīng)，生成單原子層薄膜。再次惰性氣體吹掃：去除未反應(yīng)的前驅(qū)體和副產(chǎn)物，準(zhǔn)備下一個循環(huán)。熱原子層沉積通過交替引入兩種前驅(qū)體氣體(如三甲基鋁和水蒸氣)，在基底表面發(fā)生化學(xué)吸附和表面反應(yīng)，形成單原子層。每次...高壓極化儀安全防護機制與絕緣油冷卻系統(tǒng)的可靠性驗證
2025-11-22 高壓極化儀用于對壓電陶瓷、鐵電薄膜等材料施加數(shù)千至數(shù)萬伏直流電場以實現(xiàn)極化，其高電壓操作帶來嚴(yán)峻的安全挑戰(zhàn)。因此，完善的安全防護機制與高效的冷卻系統(tǒng)是設(shè)備可靠運行的前提。安全防護機制包括：多重互鎖：艙門開啟自動切斷高壓輸出；接地保護：樣品臺與外殼雙重接地，防止靜電積累；過流/過壓保護：毫秒級響應(yīng)切斷異常電流；電弧檢測：通過高頻噪聲識別早期放電，提前預(yù)警。絕緣油冷卻系統(tǒng)則承擔(dān)兩大功能：電氣絕緣：變壓器油(如礦物油或硅油)耐壓強度30kV/mm，隔離高壓電極；散熱冷卻：極化過程產(chǎn)...阻抗分析儀數(shù)據(jù)漂移問題診斷與校準(zhǔn)策略探討
2025-11-17 阻抗分析儀作為表征材料介電、壓電、離子導(dǎo)電等性能的核心設(shè)備，其測量精度高度依賴系統(tǒng)穩(wěn)定性。然而在長期使用中，數(shù)據(jù)漂移(表現(xiàn)為零點偏移、增益變化或相位誤差)常導(dǎo)致測試結(jié)果不可靠，亟需系統(tǒng)性診斷與校準(zhǔn)。漂移成因主要包括：環(huán)境因素：溫度波動(±2℃)影響內(nèi)部參考元件與電纜介電常數(shù)；器件老化：信號源振蕩器頻率漂移、放大器增益衰減；連接問題：測試夾具氧化、接觸電阻變化；電磁干擾：鄰近設(shè)備引入噪聲，尤其在低阻抗測量時顯著。診斷方法：使用標(biāo)準(zhǔn)阻抗元件(如1kΩ電阻、100pF...顯微成像橢偏儀結(jié)合了橢偏技術(shù)與光學(xué)顯微成像技術(shù)
2025-10-31 顯微成像橢偏儀是一種結(jié)合光學(xué)顯微成像與橢偏技術(shù)的儀器，主要用于測量薄膜厚度、折射率、吸收系數(shù)等參數(shù)，并獲取樣品表面的三維形貌分布。顯微成像橢偏儀基于橢圓偏振原理，通過分析入射偏振光經(jīng)樣品反射或透射后的偏振態(tài)變化，結(jié)合光學(xué)顯微成像技術(shù)，獲取樣品表面的三維形貌分布及薄膜厚度、折射率等光學(xué)參數(shù)。過程包括：光源與偏振控制：光源發(fā)出的光經(jīng)起偏器變?yōu)榫€偏振光，再通過補償器調(diào)整為特定偏振狀態(tài)(如橢圓偏振光)。樣品相互作用：偏振光入射到樣品表面，與樣品發(fā)生反射或透射，偏振狀態(tài)因樣品特性(如薄...核心技術(shù)揭秘：離子濺射儀的工作原理與獨特設(shè)計特點剖析
2025-10-18 離子濺射儀是制備高純度、高結(jié)合力金屬/化合物薄膜的核心設(shè)備，其通過離子轟擊靶材實現(xiàn)原子級沉積，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、光學(xué)器件及納米材料領(lǐng)域。理解其工作原理與設(shè)計特點，是優(yōu)化薄膜性能的關(guān)鍵。一、工作原理：離子濺射的核心是“動量轉(zhuǎn)移”。設(shè)備通過氣體放電(通常為氬氣，純度99.999%)產(chǎn)生等離子體(含大量Ar?離子)，在高壓電場(通常-300V至-1000V)作用下，Ar?離子加速轟擊靶材(如金屬鈦、氧化物陶瓷)表面。離子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞，將動能傳遞給靶材原子(單個Ar?離...課題組的寵兒--科研專用臺式原子層沉積系統(tǒng)（臺式ALD)
2025-08-18 一臺來自哈佛大學(xué)的原子層沉積系統(tǒng)一臺科研用的原子層沉積系統(tǒng)一臺備受課題組歡迎的ALD市面上小而美的ALD您值得擁有??！盈思拓(Insontech)----AnricTechnologies公司中國區(qū)總代表處AnricTechnologies成立于2014年，由哈佛大學(xué)ALD工藝著名專家RoyGordon教授組的研究人員創(chuàng)立，旨在填補市場小型臺式原子層沉積(ALD設(shè)備)的空白，是為大學(xué)、初創(chuàng)企業(yè)、探索原子層沉積(ALD)技術(shù)的公司、啟動試點生產(chǎn)線以及專業(yè)制造商提供設(shè)計和優(yōu)化的工...關(guān)注公眾號
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